一滩水如何拯救了 Moore's Law

Immersion lithography saved Moore's Law (2023)

在 2000 年代初，芯片行业曾面临 157 纳米光刻技术的物理瓶颈，Moore's Law 似乎即将终结。ASML 的研究员 Jan Mulkens 提出一个大胆构想：在镜头与晶圆之间加入高纯度水层。这一看似荒谬的“水坑”方案，利用水的折射率显著提升了成像分辨率，不仅绕过了 157 纳米的技术死胡同，还让现有的 193 纳米设备得以延续。从最初的质疑到 TWINSCAN XT:1250i 的问世，再到 NXT 平台推动制程进入 32 纳米及更先进节点，浸没式光刻技术彻底改变了半导体制造的路线图。如今，这项技术支撑着全球超过 1100 台系统的运行，证明了在工程极限边缘，一个简单的物理原理足以扭转乾坤。