물 한 방울이 무어의 법칙을 구했다: ASML이 65nm 한계를 넘어선 방법
Immersion lithography saved Moore's Law (2023)
2000년대 초, 반도체 업계는 157nm 리소그래피로의 전환에 실패할 위기에 처했습니다. 하지만 ASML 연구원 얀 물켄스는 물을 렌즈 아래에 사용하는 '이머전 리소그래피' 기술이 193nm 광원을 연장할 수 있다는 아이디어를 떠올렸고, 이는 무어의 법칙을 구했습니다. ASML은 빠르게 프로토타입을 개발해 2004년 TSMC가 90nm 칩을 양산하도록 했고, 이후 NXT 플랫폼을 통해 생산성을 2배 이상 높이며 오늘날까지 첨단 칩 제조의 핵심 기술로 자리 잡았습니다.
물을 통과하는 빛은 훨씬 더 작은 칩 피처를 인쇄할 수 있게 해주었는데, 그 이유는 액체가 웨이퍼의 미세 패턴을 더 정확하게 이미징하는 광학 렌즈 설계를 가능하게 했기 때문입니다.