水の一滴がムーアの法則を救った：浸液リソグラフィーの物語

Immersion lithography saved Moore's Law (2023)

2000年代初頭、半導体業界は157nmリソグラフィーへの移行に失敗し、微細化の限界に直面していました。ASMLの研究者ヤン・マルケンスは、水をレンズとウェハーの間に介在させる「浸液リソグラフィー」という光学技術に着目。これにより193nmリソグラフィーを延命し、65nmノード以降の微細化を可能にしました。ASMLは2003年に業界初の浸液システムTWINSCAN XT:1250iを発表し、その後NXTプラットフォームを開発。現在では世界の最先端チップ製造に不可欠な技術となっています。本記事では、その開発秘話と技術的課題の克服、そして半導体業界への影響を解説します。