Cómo la litografía por inmersión salvó la Ley de Moore
Immersion lithography saved Moore's Law (2023)
En 2003, la industria de semiconductores se enfrentaba a un callejón sin salida: la litografía de 157 nm era inviable. ASML apostó por una técnica basada en una capa de agua purificada bajo la lente, que permitió extender la litografía de 193 nm y superar el nodo de 65 nm. Gracias a la plataforma TWINSCAN y a la colaboración con ZEISS, la compañía lanzó el primer sistema de inmersión, el TWINSCAN XT:1250i. Hoy, más de 1.100 sistemas de inmersión están en uso, y el NXT:2100i sigue impulsando la innovación.
Proyectar luz a través de agua altamente purificada permitiría imprimir características de chip significativamente más pequeñas, porque el líquido permite diseñar una lente óptica que enfoca con mayor precisión los patrones finos en la oblea.