Luftlöcher machen Silizium-Wafer zu flachen UV-Spiegeln

Air holes turn silicon wafers into flat UV focusing mirrors for compact optics

Luftlöcher machen Silizium-Wafer zu flachen UV-Spiegeln

Forscher verwandeln gewöhnliche Silizium-Wafer in flache, fokussierende Spiegel für ultraviolettes Licht, indem sie winzige Luftlöcher einbringen. Die reflektierenden Mie-Void-Metasurfaces könnten optische Systeme deutlich kompakter machen, weil sperrige gekrümmte Linsen entfallen. Die Arbeit ist unter DOI 10.1117/1.AP.9.1.016002 erschienen.

UV Mie-void reflective metasurfaces in silicon
  1. altairprime

    UV-Mie-Void-reflektierende Metasurfaces in Silizium (2026) https://doi.org/10.1117/1.AP.9.1.016002

  2. pfdietz

    Die Anwendung auf EUV/XUV ist wichtig, da diese Wellenlängen für die Fotolithografie sehr nützlich sein können.

  3. bookofjoe

    https://unwall.app/phys.org/news/2026-11-air-holes-silicon-w...

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