Wie ein Wassertropfen Moore's Law rettete

Immersion lithography saved Moore's Law (2023)

Die Halbleiterindustrie stand Anfang der 2000er Jahre vor einer Sackgasse: Die 157-nm-Lithografie scheiterte an physikalischen Grenzen. ASML setzte stattdessen auf eine unkonventionelle Idee – Immersionslithografie mit Wasser unter der Linse. Dieser Schritt ermöglichte es, die Chip-Produktion über die 65-nm-Grenze hinaus fortzusetzen und Moore's Law am Leben zu erhalten. Der Artikel beleuchtet die Entwicklung von den ersten Experimenten bis zur heutigen NXT-Plattform, die inzwischen 80 % der ausgelieferten Immersionssysteme ausmacht.